Canon: Die Nanoimprinting -Technologie wird voraussichtlich 2nm -Halbleiter herstellen
Die Canon Corporation of Japan kündigte am 13. Oktober den Start der FPA-1200NZ2C Nanoimprint (NIL) -Semikontoren-Herstellung von Nanoimprint (NIL) an.Fujio Mitarai, CEO von Canon, hat erklärt, dass die neue Nanoimprinting -Technologie des Unternehmens kleine Halbleiterhersteller zur Herstellung fortschrittlicher Chips ebnen wird, und diese Technologie befindet sich derzeit fast ausschließlich von den größten Unternehmen der Branche.
Bei der Erläuterung der Nanoimprinting -Technologie erklärte Iwamoto Kazunori, der Leiter des Canon's Semiconductor Equipment Business, dass die Nanoimprinting -Technologie eine Maske mit einem Halbleiterschaltungsdiagramm auf einen Wafer prägt.Wenn Sie nur einmal auf einem Wafer geprägt werden, können komplexe zweidimensionale oder dreidimensionale Schaltkreise in der entsprechenden Position gebildet werden.Wenn die Maske verbessert wird, können sogar Produkte mit einer Schaltungslinie von 2nm hergestellt werden.Derzeit ermöglicht die NIL -Technologie von Canon die minimale Linienbreite des Musters einem 5 -nm -Knoten -Logik -Halbleiter.
Es wird berichtet, dass die Branche der 5 -nm -Chip -Manufacturing Equipment von ASML dominiert wird und die Nanoimprinting -Methode von Canon dazu beitragen kann, die Lücke zu schließen.
In Bezug auf die Ausrüstungskosten gaben Iwamoto und Takashi an, dass die Kundenkosten je nach den Bedingungen variieren, und es wird geschätzt, dass die für einen Lithographie erforderlichen Kosten manchmal auf die Hälfte der traditionellen Lithographiegeräte reduziert werden können.Die Verringerung der Skalierung der nanoimprintierenden Geräte erleichtert auch die Einführung von Anwendungen wie Forschung und Entwicklung.Fujio Mitarai, CEO von Canon, hat erklärt, dass der Preis der Nanoimprinting -Geräteprodukte des Unternehmens eine Ziffer niedriger sein wird als die EUV -Ausrüstung von ASML (extreme Ultraviolette), aber die endgültige Preisentscheidung wurde noch nicht getroffen.
Es wird berichtet, dass Canon viele Anfragen von Halbleiterherstellern, Universitäten und Forschungsinstituten in Bezug auf seine Kunden erhalten hat.Als alternatives Produkt zu EUV -Geräten ist die nanoimprinting -Geräte mit Spannung erwartet.Dieses Gerät kann für verschiedene Halbleiteranwendungen wie Flash -Speicher, PC -Dram und Logik verwendet werden.
Es wird berichtet, dass die Branche der 5 -nm -Chip -Manufacturing Equipment von ASML dominiert wird und die Nanoimprinting -Methode von Canon dazu beitragen kann, die Lücke zu schließen.
In Bezug auf die Ausrüstungskosten gaben Iwamoto und Takashi an, dass die Kundenkosten je nach den Bedingungen variieren, und es wird geschätzt, dass die für einen Lithographie erforderlichen Kosten manchmal auf die Hälfte der traditionellen Lithographiegeräte reduziert werden können.Die Verringerung der Skalierung der nanoimprintierenden Geräte erleichtert auch die Einführung von Anwendungen wie Forschung und Entwicklung.Fujio Mitarai, CEO von Canon, hat erklärt, dass der Preis der Nanoimprinting -Geräteprodukte des Unternehmens eine Ziffer niedriger sein wird als die EUV -Ausrüstung von ASML (extreme Ultraviolette), aber die endgültige Preisentscheidung wurde noch nicht getroffen.
Es wird berichtet, dass Canon viele Anfragen von Halbleiterherstellern, Universitäten und Forschungsinstituten in Bezug auf seine Kunden erhalten hat.Als alternatives Produkt zu EUV -Geräten ist die nanoimprinting -Geräte mit Spannung erwartet.Dieses Gerät kann für verschiedene Halbleiteranwendungen wie Flash -Speicher, PC -Dram und Logik verwendet werden.